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X熒光光譜儀的鍍層檢測
發(fā)布時(shí)間：2022-12-01 08:53:27 點(diǎn)擊：2347
X熒光光譜儀利用X熒光射線的反射強(qiáng)度，判定樣品中物質(zhì)組成，但同時(shí)，X熒光光譜儀也可以對樣品表面的鍍層厚度進(jìn)行檢測分析。
當(dāng)樣品很薄時(shí)，比如鍍層樣品，樣品中被激發(fā)的X射線熒光可能會(huì)穿透鍍層，鍍層的厚薄會(huì)影響X射線熒光信號的強(qiáng)弱，鍍層越厚，鍍層中被激發(fā)的X射線熒光信號就越強(qiáng)。
當(dāng)鍍層的厚度或鍍層的成分發(fā)生變化時(shí)，X射線熒光的信號會(huì)隨之變化。通過建立鍍層厚度和成分與X射線信號強(qiáng)度的關(guān)聯(lián)關(guān)系，就可以分析鍍層的厚度和成分。
鍍層是通過電鍍在機(jī)械制品上沉積出附著良好的，但性能和基體材料不同的金屬覆層。電鍍層一般都比較薄，從幾十納米到幾十微米不等。通過電鍍，可以再機(jī)械制品上獲得裝飾保護(hù)性和各種功能性的表面層，還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件，鍍層厚度測量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測的重要一環(huán)，是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必備手段。金屬鍍層通常按鍍層的用途可把鍍層分為三大類，即防護(hù)性鍍層，防護(hù)一裝飾性鍍層和功能性鍍層。
X熒光光譜儀的鍍層檢測
X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測試，厚度的測量范圍視材料和元素而定，通常在1nm-50um之間。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較，被測元素的特征X射線熒光強(qiáng)度不僅與鍍層中待測元素和基材的組成有關(guān)，而且與厚度直接相關(guān)。
能量色散X射線熒光光譜分析相對其他分析方法，具有無需對樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速，方便，測量成本低等明顯優(yōu)勢，特別適合用于各類相關(guān)企業(yè)作為過程控制和檢測使用。是目前應(yīng)用較為廣泛，具有速度快、無損化以及可實(shí)現(xiàn)多鍍層同時(shí)分析等特點(diǎn)。上一篇：直讀光譜儀為您劃分不銹鋼的種類 下一篇：直讀光譜儀的定性定量分析檢測方法
