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       描跡，這個(gè)詞語，似乎有點(diǎn)久遠(yuǎn)，早些年使用PMT作為檢測(cè)器的直讀光譜儀會(huì)涉及到描跡的操作，然而，在目前大多數(shù)使用CCD/CMOS作為檢測(cè)器的全譜直讀光譜儀而言，描跡是不用操作員操作的。下面為大家?guī)黻P(guān)于描跡的相關(guān)知識(shí)。

       通常所講的光譜儀光源是指為產(chǎn)生火花提供能量的電子系統(tǒng)。就是光源控制板、光源板、點(diǎn)火板的總和。嚴(yán)格來說真正的光源應(yīng)該是火花放電產(chǎn)生的火花，它的作用是將金屬樣品熔融蒸發(fā)、原子化、激發(fā)。

       火花是在氬氣氣氛中的高壓放電，電弧可在空氣氣氛中進(jìn)行放電?；鸹ㄖ弊x光譜的第一步預(yù)燃，第二步第三步也是火花，只是火花放電參數(shù)設(shè)置不同，具體說就是放電能量不同

       光譜儀的描跡是調(diào)整入射狹縫的最佳位置，目的是從光源發(fā)射的光譜經(jīng)過狹縫到達(dá)檢測(cè)器的信號(hào)最大化。

       由于溫度的變化及其它因素的影響，可能引起譜線飄移，為保證譜線和出射狹縫穩(wěn)定重合，應(yīng)定期用描跡的方法進(jìn)行調(diào)整，使所有出射狹縫調(diào)整到較理想的位置上。通過描跡，確定波峰的位置是否正確。

       描跡的方法是轉(zhuǎn)動(dòng)人射狹縫的手輪，描跡一條譜線，找出其峰值的位置，然后將手輪轉(zhuǎn)到該峰值的位置，使各個(gè)分析元素譜線對(duì)準(zhǔn)各自的出射狹縫。通過入射狹縫的水平位移，達(dá)到入射角度的變化，從而達(dá)到出射光譜水平位移的目的。

某品牌的PMT直讀光譜儀

       在直讀光譜分析中的描跡，主要是確定入射狹縫的位置；根據(jù)生產(chǎn)廠家的規(guī)定，一般把鐵和汞線當(dāng)作描跡譜線。描跡的過程也可用計(jì)算機(jī)去完成。

       另外，什么時(shí)候需要進(jìn)行描跡：(1)長(zhǎng)期停電和突然斷電；(2)溫控出現(xiàn)故障；(3)清完火花臺(tái)和擦完透鏡；(4)每一周做一次或按使用狀況設(shè)定。