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       直讀光譜儀中，氬氣及氬氣系統(tǒng)的組成占據(jù)了重要位置，一套精準(zhǔn)控制的氬氣系統(tǒng)對于直讀光譜儀的檢測有著重要的意義。我們儀器來深入了解一下。

       氬氣系統(tǒng)由氬氣控制電路、電磁閥、氣流控制閥等組成。根據(jù)激發(fā)過程的需要，氣流量的分配由程序設(shè)定，各閥門出廠時(shí)已由制造廠設(shè)定，用戶不需要單獨(dú)調(diào)整，只需提供0.3MPa的氣源即可。氬氣進(jìn)入火花室有一條通道，從聚光鏡前面下方進(jìn)入火花室，這樣就能比較徹底地沖凈光線通過處空間的空氣，又可以阻止激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的粉塵對聚光鏡的污染。氬氣系統(tǒng)各單元?dú)鍤饬髁糠峙淙缦拢?

       （1）待機(jī)狀態(tài)：為0.5L/min。 此時(shí)電磁閥門關(guān)閉，氬氣經(jīng)過固定氣流控制閥保持其恒定值。在常規(guī)分析狀態(tài)下，靜態(tài)氬流量為零。

       （2）大流量沖洗：為5-6L/min。此時(shí)電磁閥全開，目的是沖擊更換樣品時(shí)帶進(jìn)的空氣。

       （3）激發(fā)狀態(tài)：為3-5L/min。中間電路電磁閥關(guān)閉，另一路與常流量合并，以維持正常激發(fā)。當(dāng)激發(fā)停止時(shí)，兩閥關(guān)閉，又進(jìn)入待機(jī)狀態(tài)。

氬氣系統(tǒng)對直讀光譜儀的重要性

       氬氣的壓力和流量對分析質(zhì)量有一定影響，它決定氬氣對放電表面的沖擊能力，這種能力必須適當(dāng)。氬氣流量過低，不足以將試樣激發(fā)過程中產(chǎn)生的氧氣及形成的氧化物沖掉，其氧化物凝集在電極表面上，從而抑制試樣的繼續(xù)激發(fā)；氧氣流量過高，會造成不必要的浪費(fèi)，對光譜儀也有定的沖擊損傷。因此，氬氣壓力和流量必須適當(dāng)。實(shí)踐證明，氬氣的壓力和流量應(yīng)根據(jù)不同材質(zhì)進(jìn)行調(diào)節(jié)，對中低合金鋼的分析，輸入光譜儀的氬氣壓力應(yīng)達(dá)到0.5-1.5MPa，動態(tài)氬的流量為12 - 20L/min，靜態(tài)氬的流量為3 -5L/min。因此，必須要求氬氣的純度達(dá)到99. 999%以上。

       如果氬氣純度不夠，或者雜質(zhì)過高，也可以采用氬氣凈化機(jī)去除雜質(zhì)，以滿足分析要求。氬氣凈化機(jī)是用來除去氬氣中氧氣、氮?dú)狻⑺?、二氧化碳、烴類等雜質(zhì)的凈化設(shè)備。在前面已經(jīng)說明氧氣、氮?dú)夂退入s質(zhì)對分析的影響。因此，將上述雜質(zhì)控制在一定范圍內(nèi)是必要的。