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       應(yīng)用光電直讀光譜分析方法測定試樣中元素含量時，所得結(jié)果與真實含量通常是不一致，總是存在著一定的誤差和偏差。這里所講的誤差是指每次測量的數(shù)值與真值之間的差值。而偏差是指每次測得的數(shù)值與多次測量平均值之差。

       根據(jù)誤差的性質(zhì)及其產(chǎn)生原因，誤差可分為：系統(tǒng)誤差（恒定誤差）、偶然誤差（隨機誤差）和過失誤差三種。

       偶然誤差是指由于在測試過程中，一系列的有關(guān)因素微小的隨機波動而形成的具有相互抵償性的誤差、它決定了測定結(jié)果的精密度。在多次分析結(jié)果與真實含量比較，是向兩個不同方向偏離，這時的誤差稱偶然誤差。偶然誤差有時大，有時小，有時正，有時負，但正負的出現(xiàn)的機率基本相等，并且服從高斯分布定律。隨著測定次數(shù)的增加，正負誤差相互抵償，誤差平均值趨向于零。

測量誤差

       偶然誤差的來源

       了解偶然誤差的產(chǎn)生原因，從而尋找減少誤差的方法，提高分析準確度，就以光電直讀光譜分析而論，偶然誤差的主要來源有如下：

       1.與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差σ1，因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性，導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同。不均勻性的主要原因是：

       ①鋼冶煉過程中帶人夾雜物。

       ②在樣品熔煉過程中產(chǎn)生的偏析，插鋁脫氧造成樣品元素分布不均。

       ③試樣加工過程中夾入的砂粒和金屬元素，和磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。

       ④試樣在取樣冷卻過程中的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼造成激發(fā)室氣體純度不高。

       2.與激發(fā)試樣的光源不穩(wěn)定的誤差σ2，產(chǎn)生的主要原因是:

       ①電源電壓的波動，光源參數(shù)的偶然變化。

       ②激發(fā)光點不穩(wěn)，電極激發(fā)次數(shù)多造成長尖現(xiàn)象，改變分析間隙的距離。

       ③激發(fā)氬氣電極架的污物清理。

       3.與測光有關(guān)的誤差σ3，產(chǎn)生的主要原因是:

       ①與電源電壓的波動有關(guān)，與倍增管的高壓電源穩(wěn)壓有關(guān)，與放大器的穩(wěn)定有關(guān)。與元素的積分電容、元素通道的穩(wěn)定有關(guān)。綜合.上述用測光精度指標(biāo)來衡量。最好達到≤0.2%。

       ②與選擇的分析條件有密切關(guān)系。氬氣的純度和流量壓力的瞬時變動。子燃、沖洗、積分時間的選擇，電學(xué)參數(shù)的選擇等。